DL系列空心阴极电源
DL系列空心阴极电源主要应用于反应式等离子体镀膜设备HJT Reactive Plasma Deposition (RPD)，使用低能量高密度电子束升华靶材产生高解离率的离子镀着在衬底的表面高解离率离子、低轰击能量镀膜，不损伤衬底表面，保持良好的接口特性，薄膜的载子迁移率超高，是经过经长期量产验证的精密镀膜电源产品。
分类：
空心阴极电源
- 产品描述
产品概述
DL系列空心阴极电源主要应用于反应式等离子体镀膜设备HJT Reactive Plasma Deposition (RPD)，使用低能量高密度电子束升华靶材产生高解离率的离子镀着在衬底的表面高解离率离子、低轰击能量镀膜，不损伤衬底表面，保持良好的接口特性，薄膜的载子迁移率超高，是经过经长期量产验证的精密镀膜电源产品。
DL系列空心阴极电源的相关技术指标达到了国际同类电源同等水平，同时更加人性化，可以根据客户需求提供更加专业化的定制服务。
产品主要特点
● 高稳态功率输出
● 自动引弧技术
● 宽范围的参数调节功能
● 丰富的通讯接口
产品的规格参数
苏州四通恒升电源科技有限公司
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